La doctora Tania Sandoval, de la USM, recibió un premio que celebra a jóvenes investigadores destacados.
La científica chilena Tania Sandoval, quien es parte del Departamento de Ingeniería Química y Ambiental de la Universidad Técnica Federico Santa María (USM), fue reconocida por la American Vacuum Society (AVS), una de las organizaciones más importantes en el mundo de la ciencia y la tecnología.
El premio fue entregado en el simposio internacional anual de la AVS, que se realizó en Charlotte, Carolina del Norte, y destaca a jóvenes investigadores que hayan terminado su doctorado en un plazo máximo de siete años.
Primera mujer y latinoamericana en recibir el premio
Sandoval fue galardonada con el Thin Film Division Paul Holloway Young Investigator Award, convirtiéndose en la primera mujer y primera latinoamericana en conseguir este reconocimiento.
“Estoy muy honrada de recibir este premio, porque en la división de Thin Film hay un grupo excelente de personas haciendo investigación de alto nivel desde etapas tempranas de sus carreras. Este premio es un reconocimiento al trabajo que hemos realizado en el laboratorio Nanolab junto a mi equipo”, comentó la investigadora.
Además, destacó que este logro representa un avance en equidad en un ámbito históricamente dominado por hombres de Estados Unidos y Europa. “Estoy orgullosa de posicionar a la USM en el ámbito internacional y demostrar que en Chile también hacemos ciencia de calidad”, indicó.
Presentación destacada en el simposio
Durante el encuentro, la académica dio una charla titulada “Análisis guiado por descriptores de inhibidores para procesos AS-ALD”, donde compartió los principales avances de su investigación sobre control de superficies y deposición selectiva de materiales.
“Me llena de orgullo pensar que en Chile estamos presentes en esta plataforma internacional, que nuestros aportes sean escuchados y valorados, y así poder llevar el nombre de nuestra universidad a esos espacios”, finalizó Sandoval.
Sobre la American Vacuum Society
La American Vacuum Society (AVS), con sede en EE.UU., promueve la colaboración científica entre profesionales del ámbito académico, industrial y gubernamental. Con más de 4.500 miembros en todo el mundo, la organización apoya la investigación en áreas como síntesis de materiales, interfaces, ciencia de superficies y nanotecnología.
Con Información de www.chicureohoy.cl