La Dra. Tania Sandoval, de la USM, recibió el premio “Thin Film Division Paul Holloway Young Investigator Award” de la American Vacuum Society (AVS).
Gracias a su brillante trayectoria científica y su aporte a la investigación en materiales, la Dra. Tania Sandoval, docente del Departamento de Ingeniería Química y Ambiental de la Universidad Técnica Federico Santa María (USM), fue premiada con el “Thin Film Division Paul Holloway Young Investigator Award”, otorgado por la American Vacuum Society (AVS).
Este reconocimiento, que se entregó durante el simposio internacional anual de la AVS en Charlotte, Carolina del Norte (EE. UU.), distingue a investigadores jóvenes con menos de siete años desde que obtuvieron su doctorado y que han demostrado una trayectoria destacada en el área de películas delgadas y materiales avanzados.
“Me siento muy orgullosa de recibir este premio, porque la división de Thin Film reúne a investigadores de primer nivel desde las primeras etapas de sus carreras. Es un reflejo del trabajo que hacemos en el laboratorio Nanolab junto a mi equipo”, dijo la Dra. Sandoval, quien forma parte de esta prestigiosa asociación científica internacional desde 2014.
La académica también destacó cómo este logro contribuye a poner en la mira la ciencia chilena:
“Estoy feliz de ser la primera mujer en recibir este galardón en un campo donde predominan los hombres, particularmente de Estados Unidos y Europa. Este premio también pone a la USM y a nuestro laboratorio en el mapa internacional”, enfatizó.
Investigación chilena con presencia internacional
Durante el encuentro, la Dra. Sandoval presentó la charla “Descriptor-driven analysis of inhibitors for AS-ALD processes”, donde compartió los principales avances de su línea de investigación en control de superficies y deposición selectiva de materiales.
La investigadora asistió acompañada de su equipo del laboratorio Nanolab, Lucas Lodeiro y Matías Picuntureo, quienes también presentaron sus investigaciones. Además, se mostraron dos trabajos realizados en colaboración con la Universidad Técnica de Eindhoven (Países Bajos).
“Hemos mantenido una red internacional activa de colaboración y difusión de nuestro trabajo. Estas instancias nos permiten demostrar que desde Chile se puede hacer ciencia de frontera y ser reconocidos a nivel internacional”, agregó la académica.
Sobre la American Vacuum Society (AVS)
La American Vacuum Society es una organización científica internacional con sede en EE. UU., que agrupa a más de 4.500 profesionales del ámbito académico, industrial y gubernamental. A través de divisiones técnicas, promueve la colaboración y el avance del conocimiento en áreas como la ciencia de materiales, superficies, interfaces y nanotecnología.
Con Información de portalmetropolitano.cl
